昂丹司琼(Ondansetron)的EP全套杂质有哪些?
本文整理欧洲药典EP 11.0版昂丹司琼(Ondansetron)全套杂质信息,梳理EP杂质控制要求,为仿制药注册申报提供合规参考。
欧洲药典(EP)11.0版昂丹司琼盐酸二水合物专论中共收载8个杂质,其中指定控制杂质(Specified impurities)7个,其他可检出杂质(Other detectable impurities)1个,采用薄层色谱法(TLC)单独控制杂质B,采用高效液相色谱法(HPLC)控制其余所有相关物质。
杂质A
- 官方名称:Ondansetron Hydrochloride Dihydrate EP Impurity A
- 化学名:(3RS)-3-[(dimethylamino)methyl]-9-methyl-1,2,3,9-tetrahydro-4H-carbazol-4-one
- CAS:—
- SMILES:[H][C@]1(CN(C)C)CCC2=C(C1=O)C1=CC=CC=C1N2C
- EP官方CRS:有
- CATO货号:—
杂质B
- 官方名称:Ondansetron Hydrochloride Dihydrate EP Impurity B
- 化学名:6,6′-methylenebis[(3RS)-9-methyl-3-[(2-methyl-1H-imidazol-1-yl)methyl]-1,2,3,9-tetrahydro-4H-carbazol-4- one]
- CAS:1076198-52-1
- SMILES:CC1=NC=CN1CC1CCC2=C(C1=O)C1=CC(CC3=CC=C4C(=C3)C3=C(CCC(CN5C=CN=C5C)C3=O)N4C)=CC=C1N2C
- EP官方CRS:无
- CATO货号:C4X-13942
杂质C
- 官方名称:Ondansetron Hydrochloride Dihydrate EP Impurity C
- 化学名:9-methyl-1,2,3,9-tetrahydro-4H-carbazol-4-one
- CAS:—
- SMILES:[H][C@]1(CN(C)C)CCC2=C(C1=O)C1=CC=CC=C1N2C
- EP官方CRS:无
- CATO货号:—
杂质D
- 官方名称:Ondansetron Hydrochloride Dihydrate EP Impurity D
- 化学名:9-methyl-3-methylidene-1,2,3,9-tetrahydro-4H-carbazol-4-one
- CAS:99614-64-9
- SMILES:C=C1CCC2=C(C1=O)C1=CC=CC=C1N2C
- EP官方CRS:有
- CATO货号:C4X-13944
杂质E
- 官方名称:Ondansetron Hydrochloride Dihydrate EP Impurity E
- 化学名:1H-imidazole
- CAS:—
- SMILES:—
- EP官方CRS:有
- CATO货号:—
杂质F
- 官方名称:Ondansetron Hydrochloride Dihydrate EP Impurity F
- 化学名:2-methyl-1H-imidazole
- CAS:—
- SMILES:—
- EP官方CRS:有
- CATO货号:—
杂质G
- 官方名称:Ondansetron Hydrochloride Dihydrate EP Impurity G
- 化学名:(3RS)-3-[(1H-imidazol-1-yl)methyl]-9-methyl-1,2,3,9-tetrahydro-4H-carbazol-4-one (C-desmethylondansetron)
- CAS:—
- SMILES:[H][C@]1(CN2C=CN=C2)CCC2=C(C1=O)C1=CC=CC=C1N2C
- EP官方CRS:有
- CATO货号:—
杂质H
- 官方名称:Ondansetron Hydrochloride Dihydrate EP Impurity H
- 化学名:(3RS)-3-[(2-methyl-1H-imidazol-1-yl)methyl]-1,2,3,9-tetrahydro-4H-carbazol-4-one (N-desmethylondansetron)
- CAS:—
- SMILES:[H][C@]1(CN2C=CN=C2C)CCC2=C(C1=O)C1=CC=CC=C1N2
- EP官方CRS:无
- CATO货号:—
数据来源: 欧洲药典(EP 11.0)Ondansetron专论原文 Disregard limit: 0.05 per cent Total impurities limit: maximum 0.4 per cent
昂丹司琼的核心骨架为咔唑酮结构,杂质主要产生于咪唑侧链烷基化缩合和N-甲基化两个关键合成步骤。杂质B是典型的二聚体副产物,由两分子咔唑酮中间体在酸性缩合条件下通过亚甲基桥联偶联生成;去甲基杂质A、G、H则由原料引入的去甲基取代中间体,或甲基化反应不完全残留引入;小分子杂质E(咪唑)、F(2-甲基咪唑)为烷基化步骤未反应完全的残留原料。EP专论将所有工艺相关副产物和原料杂质均纳入指定杂质控制,对应关键控制点为缩合反应温度、物料配比以及甲基化反应转化率,企业需在工艺开发中重点控制该两步反应的副反应发生。
从NMPA注册审评视角,昂丹司琼属于已上市仿制药一致性评价品种,杂质研究需严格符合ICH Q3A对原料药杂质控制的要求,重点核查项目包括两个方面:一是共洗脱杂质的定量准确性,EP专论中明确杂质E与F、杂质A与G存在共洗脱风险,审评中会要求申请人提供完整的分离度验证数据,必要时需采用LC-MS辅助定位定量,EMA监管要求与EP一致,均认可共洗脱杂质合并定量的方式,仅要求合并结果不超过规定限度;二是二聚体杂质B的控制,该杂质采用TLC单独控制限度为0.4%,审评中会要求申请人结合自身工艺实际杂质产出水平,验证方法的检出限和定量限(推断)。对于其他可检出杂质H,NMPA遵循ICH Q3A要求,无需强制鉴定,但实际生产中若检出超过0.05%忽略限,需补充开展结构确证和安全性评估。
有EP官方CRS的杂质(A、D、E、F、G)可直接通过EDQM获取,是方法学验证的首选对照品;EP未提供单独CRS的杂质(B、C、H),企业需自行解决对照品来源,其纯度和溯源性直接影响方法学验证的结果有效性;对于其他可检出杂质H,无需强制鉴定,但若实际检出超过忽略限,需按ICH Q3A要求评估是否需要开展结构确证。如需获取Ondansetron EP杂质对照品(包括EP未提供官方CRS的杂质),欢迎联系CATO Research Chemicals(佳途科技)获取支持。
CATO Research Chemicals(佳途科技)提供Ondansetron EP全套杂质对照品,拥有ISO 17034双认证(CNAS + ANAB),每批次产品附带完整COA及溯源证书,完全支持EMA、NMPA及ICH框架下的各类注册申报场景。




